姓名：石建平
性別：男
出生年月：1976年
職稱：教授
學院：物理與電子信息學院
研究方向：
非線性光學材料高能粒子束輻照改性及防護
基于表面等離子體激元（SPP）共振的新型納米光子器件及其在生命科學、薄膜科學、電子通信等領域中的應用。
基于Silvaco軟件平臺的新型半導體器件設計及應用
光子晶體微結構器件及其應用
高分辨率微電子光刻技術及原子光刻技術


石建平，男，1976年生于四川省中江縣，教授，碩士生導師。2005年中國科學院院長獎學金獲得者，2006年安徽師范大學破格教授, 2010年安徽省學術和技術帶頭人后備人選。

所受教育
學士（1999年） 吉林大學（原長春地質學院）
碩士（2002年） 中國科學院光電技術研究所
·博士（2005年） 中國科學院光電技術研究所
職稱職位
·2005年-現在 安徽師范大學教授，碩士生導師

主持項目
非線性光學材料電子束輻照損傷機理及實驗研究，國家自然科學基金（23萬，2009.1－2011.12）
高能荷電粒子束輻照非線性光學材料的致損新機理和實驗研究，教育部科學技術研究重點項目（10萬，2010.1－2012.12）
安徽省學術技術帶頭人后備人選擇優資助（2萬）
非線性光學材料輻照損傷機理研究，安徽省教育廳自然科學研究項目（0.8萬，2006－2008）
非線性光學材料輻照改性模擬研究，中科院光電技術研究所橫向課題（2.5萬， 2006）

研究方向
非線性光學材料高能粒子束輻照改性及防護
基于表面等離子體激元（SPP）共振的新型納米光子器件及其在生命科學、薄膜科學、電子通信等領域中的應用。
基于Silvaco軟件平臺的新型半導體器件設計及應用
光子晶體微結構器件及其應用
高分辨率微電子光刻技術及原子光刻技術

講授課程
研究生課程：微細加工光學技術，現代光學前沿講座
本科生課程：線性代數，電工與電路分析(雙語)，數字電子技術基礎

部分論文
1．Huangyuan，Jianping Shi; Songlin Wen; Kexiu Dong; Optical design of 1D-PC polarization filtrs with multi-channel, Optoelectronics Letters, 2010, 6(3): 0187-0191
2．石建平, 董可秀, 黃圓等，基于納米光學天線的掃描近場光學探針研究，光學學報, 2010，30（5）：1459-1462
3．Jianping Shi, Yuan Huang and Songling Wen，Multi-channels PCs polarization filter and analysis of influence factors，Key Engineering Materials Vols．428-429 (2010) pp 519-523
4．石建平、黃圓、董可秀，一維光子晶體偏振濾波器通道數目的影響因素研究，中國激光，2008，35（s2）：158－162
5．石建平,董可秀,黃圓,楊書容,陳旭南．全硅光子晶體波導中二次諧波產生及影響因素[J]．光學學報, 2009, 29(2): 506～510
6．J.P．Shi, X．Chen, H．LI, H．Yao, Second harmonic generation in two dimension PCs consisting of centro-symmetric dielectric, International Journal of Modern Physic Letters B,vol.19(5:869-873),2005
7．J.P．Shi, H．LI ,X．Chen, H．Yao, a new method for second harmonic generation, Chinese opitic letters,vol.3(8):s61-s62, 2005
8．X．Luo, J.P．Shi, H．Wang, G．Yu, Surface plasmon polaron radiation from metallic photonic crystal slab, Mod.Phys lett．B．18, 945, 2004
9．石建平 、陳獻忠等，光子晶體器件的研究進展及前景，微納電子技術，41(1), 2004
10．石建平 陳旭南等，原子束計算全息原理與實現，物理學報，52（4），2003

部分專利
1．反射式周期性微納結構帶隙特性測量裝置，200410009920.6
2．脈沖激光線性材料光子晶體倍頻器， 200410009529.6
3．制作超微細圖形的裝置，01108757.9
4．普通光源緊貼式納米光刻光學裝置，200310100167.7
5．光刻成像濾波裝置， 01108758.7
6．亞波長光柵導模共振防偽商標及其制作方法，200310121489.X
7．一般波長或長波長光柵接觸接近納米光刻光學裝置， 03123574.3
8．超分辨力投影光刻物鏡， 01108435.9，

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